建案介紹

光磊科技二廠新建工程

業        主:光磊科技股份有限公司
建築設計:涂秀偉建築師事務所
規        模:總樓地板面積73,009㎡,
                     地上十層、地下三層
開工日期:87.10.17
完工日期:89.08.12
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